咨詢熱線
13810961731
13810961731
追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經營質量保障價格合理服務完善相關文章
Related Articles詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環保,化工,電子/電池 |
|---|
CVD 化學氣相沉積（CVD）為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露於一種或多種揮發性氣體中，在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用於在真空環境中製造高質量與高性能的固體材料。因此，該製程通常在半導體工業中用於製造薄膜。
化學氣相沉積
Figure 1:化學氣相沉積的步驟
在典型的CVD中，將前驅物在室溫下進料到反應腔體中。當它們與加熱的基板接觸時，它們發生反應或分解以形成薄膜，並沉積在基材上。在此過程中，還會產生副產物，這些副產物可通過流經反應腔體的氣流除去。其製程溫度非常重要，會影響其化學反應。
Figure 2: 示意圖-化學氣相沉積的步驟
產品咨詢
