<option id="3g4cf"></option>

熱蒸鍍?cè)O(shè)備

簡(jiǎn)要描述：熱蒸鍍?cè)O(shè)備是用於沉積材料中簡(jiǎn)單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜。

產(chǎn)品型號(hào)：
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間：2024-07-10
訪問(wèn) 量：620

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

磁控濺射

查看全部

相關(guān)文章

原子層沉積和磁控濺射的區(qū)別體視顯微鏡可屈光度調(diào)節(jié)的方法 X射線顯微鏡的深度探查能力分享透射電鏡的三種成像原理三目正置生物顯微鏡的觀察方法操作步驟奧林巴斯 CKX53 可以數(shù)碼拍照倒置顯微鏡

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,化工,電子/電池

熱蒸鍍?cè)O(shè)備

熱蒸發(fā)製程是用於沉積材料中簡(jiǎn)單的物理氣相沉積（PVD）。將材料（金屬或者有機(jī)材料等）置於真空環(huán)境中的電阻熱源中，使其加熱並蒸發(fā)，以最直接的方式蒸發(fā)到基板上，然後在基板上凝結(jié)成固態(tài)形成薄膜。熱蒸發(fā)比濺鍍提供更快的蒸發(fā)速率，但是，其容納材料的舟或坩堝尺寸有限，並且難以控制其蒸發(fā)速率。該方法通常用於小規(guī)模同時(shí)控制多組電阻熱源來(lái)沉積電極，如單層薄膜或共蒸發(fā)薄膜。

熱蒸鍍?cè)O(shè)備

北京瑞科中儀科技有限公司專(zhuān)注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì)，專(zhuān)精的服務(wù)，提供理想的解決方案。

產(chǎn)品咨詢