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簡要描述：專用電子束光刻系統(tǒng)這些創(chuàng)新、智能配置的電子束光刻系統(tǒng)可以輕松有效地實現(xiàn)納米加工。所有 Raith EBL 系統(tǒng)都配備了高精度激光干涉儀平臺和圖案發(fā)生器，可為您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、無拼接錯誤曝光模式以及Nanosuite（直觀且全面的納米光刻軟件） ）使 Raith 的系統(tǒng)有別于其他納米光刻設備。聯(lián)系我們討論哪種系統(tǒng)適合您的需求。
產品型號：廠商性質：經銷商更新時間：2024-07-10訪 問 量：715產品分類
Product Category詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
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專用電子束光刻系統(tǒng)
自動化、穩(wěn)定性和吞吐量
EBPG Plus 高性能納米光刻系統(tǒng)可在 100 kV 電壓下提供高達 8 英寸的能力。其全自動化、高速和高分辨率可以為中心的操作以及半導體制造產生的光刻技術。
憑借其創(chuàng)新的架構和具有吸引力的擁有成本，VOYAGER 納米光刻系統(tǒng)降低了高速電子束光刻的準入門檻。
RAITH150 兩個直寫工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亞 8 納米結構可以在從幾毫米到 8 英寸晶圓的樣品尺寸上實現(xiàn)，而熱穩(wěn)定性即使在具有挑戰(zhàn)性的環(huán)境中也能支持最高性能。
多技術電子束光刻系統(tǒng)
靈活性、多功能性和 SEM 成像
這種多功能的多技術納米光刻系統(tǒng)將 EBL 系統(tǒng)與用于定制實驗和工藝的開放平臺相結合。eLINE Plus 具有一系列不同的選項，是通用的納米工程 EBL 系統(tǒng)。
EBL-SEM 混合系統(tǒng)將先進的納米光刻和分析 SEM 成像結合在一個工具中。PIONEER Two 定義了一種新型的經濟型專業(yè)電子束光刻系統(tǒng)，適用于納米加工和基于 SEM 的分析。
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